庄纯平静的声音响起。

“接下来，咱们来看一看更先进的光刻机的实现原理。”

虚拟屏幕上投射出一张极为复杂的局部构造图。

“这是光刻机最关键的部件，光刻制程布局道，我们都知道，要想让光刻制程提升，有很多因素，光源啦，光道等等。

在工业界之前的认知中，目前理论预测的极限大概在3nm左右，如今市面上基本上已经开始流通7nm了，台积电也在紧张筹备5nm、3nm生产线，阿斯麦估摸着实验室对5nm的研制已经很深入了。

我想说的是，理论的极限是真正的物理极限，1nm。”

庄纯先是用冗长的一段话，给在座的院士教授们解释了一些既有的理论，顺便提出了自己的观点。

“庄总，请问你对1nm这个理论极限的推测依据是什么？”

终于，有一个院士发言提问了。

“大家别急嘛，接下来我要说的就是这个。

在研究出5nm制程的光刻机之时，在模拟实验室中有些意外的发现，将原先的研究成品推翻了。

如今展现给大家看的，是5nm光刻机，但是，已经兼容了3nm，只要某些关键的工艺在做一点小突破，直接能上线3nm，也就是之前预测的理论极限。

但，在这个过程中，又有了新的意外发现，3nm并不是极限……”

庄纯简单的几句话，不仅解释了1nm的依据，也带来了绝对的震撼。

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